Глава 2.17

Полевой транзистор с затвором в виде р-n перехода

Рассмотрим характеристики полевого транзистора, затвор у которого выполнен в виде р-n перехода. На рис. 2.17.1 показана одна из возможных топологий такого транзистора. Омические контакты к левой и правой граням полупроводниковой подложки будут являться истоком и стоком, область квазинейтрального объема заключенная между обедненными областями р-n переходов - каналом, а сильно легированные n+ области сверху и снизу - затвором полевого транзистора.

Конструктивно ПТ с затвором в виде р-n перехода может быть выполнен с использованием планарной технологии и в различных других вариантах. При приложении напряжения VGS к затвору ПТ, обеспечивающего обратное смещение р-n перехода (VGS > 0 ), происходит расширение обедненной области р-n перехода в полупроводниковую подложку, поскольку затвор легирован существенно сильнее, чем подложка (ND >> NA). При этом уменьшается поперечное сечение канала, а следовательно, увеличивается его сопротивление.

Приложенное напряжение исток-сток VDS вызовет ток в цепи канала полевого транзистора. Знак напряжения VDS необходимо выбирать таким образом, чтобы оно также вызывало обратное смещение затворного р-n перехода, то есть было бы противоположно по знаку напряжению VGS. Таким образом,

полевой транзистор с затвором в виде р-n перехода
представляет сопротивление, величина которого регулируется внешним напряжением.

полевой транзистор с затвором в виде р-n перехода

Рис. 2.17.1. Схематическое изображение полевого транзистора с затвором в виде р-n перехода.

Получим вольтамперную характеристику транзистора. Здесь, как и ранее, ось у направим вдоль канала, ось х - по ширине канала, ось z - по глубине канала. Обозначим L, W, Н длину, ширину и высоту канала при отсутствии напряжения на транзисторе (VGS = VDS = 0).

При приложении напряжения к затвору VGS > 0 и стоку VDS < 0 произойдёт расширение обеднённой области р-n перехода на величину    , равную

формула 2.17.1  . (2.17.1)

Поскольку напряжение исток-сток VDS распределено вдоль канала VDS(у), то изменение ширины канала транзистора будет различно по длине канала. При этом высота канала h(y) будет

высота канала h(y)  . (2.17.2)

Введем

напряжение смыкания VG0
напряжение на затворе, когда в квазиравновесных условиям (VDS = 0) обедненные области р-n переходов смыкаются h(y) =0.

Тогда из (2.17.2) следует, что

формула 2.17.3  . (2.17.3)

Соотношение (2.17.2) с учетом (2.17.3) можно переписать в виде

высота канала h(y)  . (2.17.4)

Выделим на длине капала участок от у до у+dy, сопротивление которого будет dR(y). При токе канала IDS на элементе dy будет падать напряжение dVDS(y), равное

падение напряжения  . (2.17.5)

Величина сопротивления dR(y) будет

сопротивление dR(y)  . (2.17.6)

Подставим (2.17.6) в (2.17.5) и проведем интегрирование по длине канала

формула 2.17.7  . (2.17.7)

Поскольку удельное объемное сопротивление    равно    , преобразуем величину   

формула 2.17.8  . (2.17.8)

Здесь    - заряд свободных дырок в канале на единицу площади. Подставляя (2.17.8) в (2.17.7) и проведя интегрирование, получаем следующую зависимость тока стока IDS от напряжения на затворе VG и стоке VDS для полевого транзистора с затвором в виде р-n перехода:

формула 2.17.9  . (2.17.9)

При малых значениях напряжения исток-сток в области плавного канала VDS << VG

формула 2.17.10  . (2.17.10)

Если сравнить соотношение (2.17.10) с выражением (2.2.10) для тока стока МДП полевого транзистора в области плавного канала, то видно, что эти выражения совпадают при малых значениях напряжения VDS.

Из (2.17.4) следует, что при напряжениях VG < VG0 всегда можно найти такое напряжение на стоке VDS, когда вблизи стока произойдет смыкание канала h(y = L, VG, VDS) = 0.

Аналогично процессам в МДП ПТ это явление называется отсечкой. Из (2.17.4) следует, что напряжение отсечки V*DS будет

напряжение отсечки  . (2.17.11)

Также заметим, что выражение (2.17.11) аналогично соотношению (2.2.11) для напряжения отсечки МОП ПТ, а напряжение смыкания VG0 имеет аналогом величину порогового напряжения VТ.

По мере роста напряжения исток-сток VDS точка отсечки перемещается от истока к стоку. При этом аналогично МДП ПТ наблюдается независимость тока стока от напряжения на стоке и эффект модуляции длины канала. Подставляя (2.17.11) в (2.17.9) получаем зависимость тока стока IDS в области отсёчки для полевого транзистора с затвором в виде р-n перехода

формула 2.17.12  . (2.17.12)

В области отсечки выражение (2.17.12) хорошо аппроксимируется квадратичной зависимостью вида

формула 2.17.13  . (2.17.13)

На рис. 2.17.2 показаны вольтамперные характеристики ПТ с затвором в виде р-n перехода. Отличительной особенностью их является тот факт, что при напряжении на затворе VG = 0 канал транзистора открыт и величина тока через него максимальна.

Быстродействие ПТ с затвором в виде р-n переходов обусловлено зарядкой барьерных емкостей СG затворных р-n переходов через сопротивление канала RK. Величина времени заряда    . Емкость затвора СG и сопротивление канала RK равны

формула 2.17.14a  ; формула 2.17.14b  ; (2.17.14)

формула 2.17.15  . (2.17.15)

Выражение (2.17.15) имеет минимальное значение при ширине обеднённой области    , при этом граничная частота

граничная частота  . (2.17.16)

При значениях H = L для кремния () с удельным сопротивлением    , равным   = 1 Ом*см, граничная частота будет составлять величину несколько гигагерц.

выходные характеристики

Рис. 2.17.2. а) Выходные характеристики транзистора КП 302Б; б) Начальные участки выходных характеристик транзистора КП 302Б.


Глава 2.16 Содержание Глава 3.1