5.4
pin-фотодиоды
Структура
pin-фотодиода спроектирована так, чтобы
избежать недостатков фотодиода pn-типа. Но
все основные принципы регистрации
сохраняются.
Рисунок 5.5
Конструкция pin-фотодиода.
Введение
слоя собственного полупроводника между p
и n
слоями примесного полупроводника
позволяет существенно увеличит размер
области пространственного заряда.
Рисунок 5.6
Принцип действия pin-фотодиода.
В
i-слое
свободные носители практически
отсутствуют и силовые линии
электрического поля начинающие с доноров
в n-области
без экранировки проходят через i-слой
и заканчиваются на акцепторах p-области.
Ширина
i-слоя составляет обычно 500-700мкм. В отличии
же от i-зоны, легированные слои сделаны
очень тонкими. Все вместе это сделано для
того, чтобы все оптическое излучение
поглощалось в i-слое и сокращалось время
переноса зарядов из i – зоны в
легированные области.
В
результате падающие фотоны возбуждают
ток во внешнем контуре более эффективно
и с меньшим запаздыванием. Носители,
образующие внутри обедненной зоны,
мгновенно сдвигаются в сильном
электрическом поле к соответственно p- и
n- областям диода.
Квантовая
эффективность таких диодов обычно равна
80%. Для диодов сконструированных для
применения в оптоволоконных линиях
емкость перехода равна 0,2 pF, при рабочей
поверхности диода 200 mm. |
 |
Рисунок 5.7
pin-фотодиод SHF 202 |
Итак, основное
преимущество pin-фотодиода
заключается в высоких скоростях
переключения, так как поглощение излучения
происходит в i-слое,
где за счет дрейфового переноса высокие
скорости для носителей заряда.
Другим преимуществом
является высокая квантовая эффективность,
поскольку толщина i-слоя обычно больше
обратного коэффициента поглощения и все
фотоны поглощаются в i-слое.
Использование
гетеропереходов для pin-фотодиодов
позволяет избежать поглощения света в базе
фотодиода.
|